一种连续电去离子膜堆的清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种连续电去离子膜堆的清洗装置，属于水处理技术领域，包括配药箱、循环加药泵、配药箱排空阀、清洗水箱、清洗水箱排空阀、清洗水泵、保安过滤器、流量计、连续电去离子膜堆、清洗进水阀、浓水进水阀、产水排放阀、浓水排放阀、浓水流量计、清洗液排放阀、清洗液回流阀、第一止回阀、第二止回阀、第一蝶阀及第二蝶阀。本实用新型的连续电去离子膜堆的清洗装置，用于清洗受到多种综合性污染的连续电去离子膜堆，特别适用于污水再生回用深度处理的连续电去离子膜堆，有利于连续电去离子膜堆恢复产水水质和水量，降低运行压差和运行电压，降低运行能耗。
基本信息
专利标题 ：
一种连续电去离子膜堆的清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922236091.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-13
授权号 ：
CN211920986U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
王为民郭彩荣张岩岗
申请人 ：
北京赛诺水务科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区知春路1号学院国际大厦805室
代理机构 ：
北京市广友专利事务所有限责任公司
代理人 ：
耿小强
优先权 ：
CN201922236091.X
主分类号 ：
C02F1/469
IPC分类号 ：
C02F1/469
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/46
用电化学方法
C02F1/469
用电化学分离，如用电渗透、电渗析，电泳
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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