电解液高位槽
授权
摘要
本实用新型的目的是提供一种能够从根源上减少电解液中气泡含量的电解液高位槽，经酸泵泵送来的电解液在进入进液仓之前先进入分配缸内，经分配缸缓冲、混匀后的电解液流速变慢，这时再经进液管进入到进液仓内，对进液仓内液体的冲击力大大减小，再加之进液管的下端低于竖板的上端，电解液直接融入进液仓内原有的电解液内，不会对进液仓内的电解液液面产生较大的冲击，从源头上减少进液仓内的电解液的气泡含量。
基本信息
专利标题 ：
电解液高位槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922262636.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN211227372U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
张志国王俊杰梁玮王万军胡子豪
申请人 ：
铜陵有色金属集团股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省铜陵市铜官区长江西路有色大院
代理机构 ：
合肥诚兴知识产权代理有限公司
代理人 ：
汤茂盛
优先权 ：
CN201922262636.4
主分类号 ：
C25C7/00
IPC分类号 ：
C25C7/00 C25C1/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺；其所用的设备
C25C7/00
电解槽的结构部件，或其组合件；电解槽的维护或操作
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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