本实用新型涉及一种用于晶硅的清洁机构，属于晶硅加工设备领域，包括相对设置的两挡板，两挡板之间沿着晶硅的输送方向上依次设有喷雾清洗装置、擦拭装置、粘附装置和去静电装置，晶硅经过喷雾清洗装置喷洒清洁剂，再经擦拭装置进行擦拭，最后经去静电装置对晶硅进行表面去离子操作达到清洁晶硅底面的效果，且在挡板上设置安装孔，便于更换所述粘附装置，快换组件便于下滚筒的快速安装和更换，设计巧妙、结构紧凑，清洁效果良好、清洁效率高，便于晶硅底面清洁的自动化操作。