一种舞台半透明投影幕双面清理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种舞台半透明投影幕双面清理装置，涉及舞台设备技术领域，包括第一辊和设置于幕布另一侧的第二辊，第一辊的第一辊轴通过连接杆与第二辊的第二辊轴连接，连接杆远离幕布的一侧通过转动电机与转动轴杆连接，连接杆上设置有用于方便第一辊轴和第二辊轴滑动的滑槽。本实用新型一种舞台半透明投影幕双面清理装置结构简单，有效祛除投影幕布上的污渍，将投影幕布进行拉平，且可以在投影过程中进行清理，并适用于各类投影幕布。
基本信息
专利标题 ：
一种舞台半透明投影幕双面清理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922291602.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-19
授权号 ：
CN211802573U
授权日 ：
2020-10-30
发明人 ：
杨同焱
申请人 ：
杭州友邦演艺设备有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区长河街道滨和路998号中赢国际商务大厦1702室
代理机构 ：
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 ：
裴金华
优先权 ：
CN201922291602.8
主分类号 ：
B08B1/04
IPC分类号 ：
B08B1/04 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具，刷子或类似工具的清洁方法
B08B1/04
利用旋转动作的构件
法律状态
2020-10-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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