一种激光熔覆用送粉装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种激光熔覆用送粉装置，包括气路系统组织外壳，所述气路系统组织外壳的前端外表面设置有钥匙孔，所述气路系统组织外壳的下端外表面固定连接有滚轮，所述气路系统组织外壳的上端外表面固定安装有操作台，所述操作台的外表面设置有控制面板，所述操作台的上端外表面设置有二号送粉控制装置与一号送粉控制装置，所述二号送粉控制装置位于一号送粉控制装置的一侧，所述二号送粉控制装置的上端外表面固定连接有二号储粉筒，所述一号送粉控制装置的上端外表面固定连接有一号储粉筒。本实用新型所述的一种激光熔覆用送粉装置，设有储粉控制箱、一号插板、二号插板，可增大粉末储存量并且可控制粉末流量，带来更好的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种激光熔覆用送粉装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922299907.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-19
授权号 ：
CN211256093U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
黄世凡蒋明明
申请人 ：
杭州盛镭激光科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市江干区笕桥路1号2幢437室
代理机构 ：
合肥律众知识产权代理有限公司
代理人 ：
马文峰
优先权 ：
CN201922299907.3
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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