一种曝光机基台
授权
摘要
本实用新型涉及曝光机技术领域，尤其为一种曝光机基台，包括本体和盖板，所述本体的底端左右两侧均固定连接有支腿，所述本体的前端面固定连接有控制器，所述本体的左右两端均固定连接有固定板，所述固定板的前端面固定连接有伺服电机，所述伺服电机的前端面转轴的外侧固定连接有丝杆，所述丝杆的外侧滑动连接有滚珠，所述滚珠的顶端固定连接有连接框，所述连接框的内侧固定连接有弹簧，所述弹簧的顶端固定连接有滑块，所述滑块的内侧转动连接有转轴，所述转轴的外侧左右两端均固定连接有连接盘，通过设置的曝光框架和卡块，能够通过防尘布的设计对曝光框架的位置进行限定，能够对曝光框架进行良好的防护，有利于对曝光框架进行良好的使用。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光机基台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922303950.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-20
授权号 ：
CN211427046U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
张远张毅峰
申请人 ：
深圳市万顺为科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道光明路宏宇大厦403
代理机构 ：
深圳市辉泓专利代理有限公司
代理人 ：
孟强
优先权 ：
CN201922303950.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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