本揭露涉及一种用于净化气流的设备。该设备包括包含以下一或多个的组件：a)涡流设备，所述涡流设备将含污染物气流诱导到螺旋流中；b)初始洗涤液喷洒部分，所述初始洗涤液喷洒部分被配置成将洗涤液喷雾喷射到所述含污染物气流中；c)吸收结构；d)冷凝器；以及e)第一洗涤液净化系统和第二洗涤液净化系统，所述第一洗涤液净化系统和所述第二洗涤液净化系统可以彼此独立地接合或分离。在一些实施例中，工作场所包括清洁室或一或多个半导体加工工具，所述半导体加工工具可以包含光刻工具或光刻工具集群。在一些实施例中，所述主动湿式洗涤过滤系统可用于清洁和再循环空气或用于清洁室或半导体加工工具中的其它工艺气体。