双面标刻设备

授权

摘要

本实用新型涉及激光标刻技术领域，尤其是涉及一种双面标刻设备，包括激光器、振镜、第一反射镜和第二反射镜，振镜能够接收激光器射出的激光束，振镜能够将激光器射出的激光束射向第一反射镜，以形成第一激光束，第一反射镜用于将第一激光束反射至待标刻工件的第一待标刻面；振镜还能够将激光器射出的激光束射向第二反射镜，以形成第二激光束，第二反射镜用于将第二激光束反射至待标刻工件的第二待标刻面。通过第一反射镜将第一激光束反射至待标刻工件的第一待标刻面进行标刻后，无需转动或移动待标刻工件，而是采用第二反射镜将第二激光束反射至待标刻工件的第二待标刻面，省时省力，提高了标刻效率。

基本信息

专利标题：

双面标刻设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922320518.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-20

授权号：

CN211680528U

授权日：

2020-10-16

发明人：

喻浩许维雷桂明王雪辉

申请人：

武汉华工激光工程有限责任公司

申请人地址：

湖北省武汉市东湖新技术开发区华中科技大学科技园激光产业园

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

李青

优先权：

CN201922320518.4

主分类号：

B23K26/362

IPC分类号：

B23K26/362 B23K26/064 B23K26/082 B23K26/70