一种导墙浇筑溜槽
授权
摘要
本实用新型涉及一种导墙浇筑溜槽，涉及导墙施工技术领域，其包括倾斜设置的溜槽本体，溜槽本体包括底板和分别固定于底板两侧的两侧板，所述底板上开设有分流孔，分流孔的宽度为底板宽度的一半并且其一侧靠近于其中一个侧板，所述底板上方固定有垂直于底板的分流板，分流板长度方向与底板长度方向一致，并靠近于分流孔的靠近底板中间的一侧，分流孔和底板下游一端之间的距离等于两侧导墙之间的距离。本实用新型能够同时浇筑地下连续墙的两侧导墙，使导墙模板不容易发生倾斜而最终影响地下连续墙的垂直度。
基本信息
专利标题 ：
一种导墙浇筑溜槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922327534.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-20
授权号 ：
CN211596775U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
黄汉成崔晓波兰玉金牟兰超魏宏源
申请人 ：
一山（北京）岩土工程有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区经海六路1号院1号楼16层1608
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922327534.6
主分类号 ：
E02D15/02
IPC分类号 ：
E02D15/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D15/00
水利工程或基础的建筑材料或类似材料的处置
E02D15/02
基础专用的大量混凝土的处置
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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