一种高浓度氟离子去除装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种高浓度氟离子去除装置,包括氟离子去除罐体和一体化底座,氟离子去除罐体的底部安装于一体化底座上,一体化底座的上表面还设置有药剂罐,氟离子去除罐体的上端设置有进水口,氟离子去除罐体的内侧设置有反应搅拌装置,氟离子去除罐体靠近药剂罐的一侧端面设置有加药口,氟离子去除罐体的一侧设置有脱水机,脱水机的一侧端面的下端设置有出水口,脱水机的下方还设置有卸泥托盘。本实用新型高浓度氟离子去除装置,设计简单紧凑,占地面积小,节约场地与安装时间,运行稳定,碱投加采用氢氧化钠,投加方法简单,环境无扬尘,氯化钙投加量与生产时的氯化氢氨投加量联动,精确控制氯化钙投加量以达到节约药剂的目的。

基本信息
专利标题 :
一种高浓度氟离子去除装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922371548.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN211393983U
授权日 :
2020-09-01
发明人 :
陈瑛陶旭峰陈秀利王伟
申请人 :
台州市环美环保工程技术有限公司
申请人地址 :
浙江省台州市椒江区白云街道棕榈阳光9-2-201
代理机构 :
北京绥正律师事务所
代理人 :
吕平
优先权 :
CN201922371548.8
主分类号 :
C02F1/52
IPC分类号 :
C02F1/52  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/52
悬浮杂质的絮凝或沉淀
法律状态
2020-09-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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