一种井圈式基础挡土墙
授权
摘要

本实用新型涉及挡土墙技术领域,尤其是一种井圈式基础挡土墙,包括砼基础、砼本体和砼压顶,所述的砼基础包括长度方向设置的两个侧壁及设置在侧壁顶端的顶壁,顶壁与侧壁之间为一体结构,所述的砼本体设置在砼基础的顶壁上,砼本体的下端宽度大于其上端的宽度,且砼本体长度方向的两个侧面均为斜面,所述的砼压顶设置在砼本体的顶部;在砼本体用于挡土一侧的侧面上间隔设置有内凹孔结构,且内凹孔的深度在对应位置处的砼本体宽度的1/2‑3/4之间。本实用新型所得到的一种井圈式基础挡土墙,其通过合理的结构设计,能有效增加砼基础、砼本体与泥土之间的连接牢固性,而且保护了原土,减少挖土工程量。

基本信息
专利标题 :
一种井圈式基础挡土墙
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922379578.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-26
授权号 :
CN211773857U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
薛益龙
申请人 :
薛益龙
申请人地址 :
浙江省嘉兴市桐乡市河山镇庙头村庄头22号
代理机构 :
杭州斯可睿专利事务所有限公司
代理人 :
戚正云
优先权 :
CN201922379578.3
主分类号 :
E02D29/02
IPC分类号 :
E02D29/02  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物;挡土墙
E02D29/02
挡土墙或防护墙
法律状态
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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