用于清理放射性污染物的装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于清理放射性污染物的装置,包括:主体(1);设于所述主体(1)的运动单元(2),其能够改变运动姿态;设于所述运动单元(2)的第一拍摄单元(3),设置为拍摄目标区域以获得所述放射性污染物的特征信息;设于所述运动单元(2)的第二拍摄单元(4),设置为拍摄目标区域以获得所述目标区域的三维信息;处理和控制单元(5),设置为:基于所述放射性污染物的特征信息和所述目标区域的三维信息,确定待清理区域;以及设于所述运动单元(2)的清理单元(6),设置为对所述待清理区域进行清理。

基本信息
专利标题 :
用于清理放射性污染物的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922469518.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-31
授权号 :
CN211654333U
授权日 :
2020-10-09
发明人 :
庞洪超骆志平刘阳王俊霖吴建华郭庐阵袁国军肖思敏李兴隆刘森林
申请人 :
中国原子能科学研究院
申请人地址 :
北京市房山区新镇三强路1号院
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
张成新
优先权 :
CN201922469518.0
主分类号 :
G21F9/00
IPC分类号 :
G21F9/00  G05D1/02  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21F
G21FX射线,γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护;处理放射性污染材料;及其去污染装置
G21F9/00
处理放射性污染材料;及其去污装置
法律状态
2020-10-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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