一种曝光机降尘排风装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种曝光机降尘排风装置,包括曝光机机身,吹风风扇和排气风扇,所述曝光机机身内固定安装只有吹风风扇,该吹风风扇不少于四个,平均分布在机身四个内壁上,所述曝光机机身下端面开设有若干排风口,该排风口内固定安装有排气风扇,本实用新型通过吹风风扇增大机身内的空气流动,同时排气风扇将机身内的空气快速排出,进一步增加机身内空气流动,将机身内的灰尘排出。
基本信息
专利标题 :
一种曝光机降尘排风装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922486925.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-31
授权号 :
CN211979416U
授权日 :
2020-11-20
发明人 :
蒋海军
申请人 :
苏州必思实精密机械有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区临湖镇东山大道4168号6幢
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201922486925.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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