一种用于烧结钕铁硼的真空烧结炉
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于烧结钕铁硼的真空烧结炉,涉及磁材冶炼的技术领域,包括炉盖以及炉壳,所述炉壳靠近炉盖的一侧的外周壁设置有供炉盖贴合的安装板,所述炉盖以及安装板均呈方形设置,所述安装板靠近炉盖的一侧且位于相对的两端一体设置有限位块,所述限位块上设置有供炉盖的一侧穿设且滑移的滑移槽,所述安装板上设置有与炉盖可拆卸连接的限位件。本实用新型涉及的真空烧结炉开启炉盖方便。
基本信息
专利标题 :
一种用于烧结钕铁硼的真空烧结炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922490314.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-30
授权号 :
CN211782681U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
葛海军朱小波徐小伟许全章
申请人 :
余姚市宏伟磁材科技有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市余姚市梨洲街道竹山村芦棚2号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201922490314.5
主分类号 :
F27B5/05
IPC分类号 :
F27B5/05 F27B5/06 F27D1/18
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉;干馏炉;其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
F27B5/05
在真空中
法律状态
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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