偏振膜和其制造方法
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摘要
偏振膜，其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所表示的二硼酸和能够在水的存在下转化为该二硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)、以及硼酸(C)，前述偏振膜的从表面起向内侧至1μm的范围中的源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(α)为1~7原子%，从中心起向外侧至1μm的范围中的源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(β)为0.1~2原子%，且浓度(α)相对于浓度(β)之比(α/β)为1.5以上。该偏振膜的偏振性能和色相良好，而且收缩力低。[式(I)中，R1是碳原子数为1~20的2价有机基团，R1与2个有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。
基本信息
专利标题 ：
偏振膜和其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111727387A
申请号 ：
CN201980009995.9
公开（公告）日 ：
2020-09-29
申请日 ：
2019-01-24
授权号 ：
CN111727387B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
大桥亘矶崎孝德
申请人 ：
株式会社可乐丽
申请人地址 ：
日本冈山县仓敷市酒津１６２１番地
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
马倩
优先权 ：
CN201980009995.9
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30 B29C55/04 C08K5/55 C08K5/56 C08L29/04 B29K29/00 B29L7/00 B29L11/00 C07F5/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-10-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20190124
申请日 : 20190124
2020-09-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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