投影光学系统及图像显示装置
授权
摘要

本发明的技术问题在于实现折射/反射型的新型的投影光学系统。投影光学系统将显示于图像显示元件的图像显示面的图像作为投影图像放大投影到被投影面上,通过从所述图像显示面侧朝向所述被投影面侧依次配置折射光学系统和折射反射光学元件而成,所述折射光学系统由多个透镜构成,所述折射反射光学元件构成为具有反射面和在该反射面的入射侧与所述反射面紧贴的折射介质的一个光学元件,在所述折射介质形成有入射面和出射面,所述反射面是具有折射能力的曲面,所述入射面和所述出射面中的至少一方具有折射能力,该投影光学系统使所述折射光学系统所出射的成像光束从所述折射介质的入射面入射到所述折射反射光学元件后被所述反射面反射,并从所述折射介质的出射面出射后在所述被投影面上成像为所述放大图像。

基本信息
专利标题 :
投影光学系统及图像显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111699429A
申请号 :
CN201980011297.2
公开(公告)日 :
2020-09-22
申请日 :
2019-01-29
授权号 :
CN111699429B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
石亀贵幸
申请人 :
理光工业解决方案有限公司
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
车美灵
优先权 :
CN201980011297.2
主分类号 :
G02B17/08
IPC分类号 :
G02B17/08  G02B13/16  G02B13/18  G03B21/14  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/08
折反射系统
法律状态
2022-05-17 :
授权
2020-10-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 17/08
申请日 : 20190129
2020-09-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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