立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用...
实质审查的生效
摘要
本发明提供以下述式(I)表示的立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用其的立体控制寡核苷酸的合成方法。式中，B为保护/未保护核苷碱基，R1为取代/未取代脂肪族基团，R2、R3为DMTr基或‑P(R11)(NR12)2，R11为OCH2CH2CN、SCH2CH2CN等，R12为取代/未取代的脂肪族基团或芳香族基团；X为H、烷基、O‑烷基等，Y为H、NHR13、卤素等或酰基类、醚类、硅烷基类保护羟基，或者在与X之间形成X‑Y键，n为0以上且4以下的整数。
基本信息
专利标题 ：
立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用其的立体控制寡核苷酸的合成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114269764A
申请号 ：
CN201980029516.X
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2019-05-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
片冈正典兵藤守
申请人 ：
株式会社纳蒂亚斯
申请人地址 ：
日本兵库县
代理机构 ：
上海弼兴律师事务所
代理人 ：
王卫彬
优先权 ：
CN201980029516.X
主分类号 ：
C07H1/00
IPC分类号 ：
C07H1/00 C07H1/02 C07H21/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07H
糖类；及其衍生物；核苷；核苷酸；核酸
C07H1/00
糖衍生物的制备工艺
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07H 1/00
申请日 : 20190507
申请日 : 20190507
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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