含氟嘧啶化合物及其制造方法
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摘要
提供在第4位和第6位上具有取代基、在第2位上具有吡啶环结构或二嗪环结构的新型含氟嘧啶化合物、以及能够简单地制造含氟嘧啶化合物的制造方法。一种含氟嘧啶化合物，用下述通式(1)、(2)、(3)、(4)、(5)或(6)表示，在通式(1)～(6)中，R表示碳原子数为1～12的烃基，X和Y分别独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数为1～10的烃基、‑CnF2n+1、硝基、硼酸基、‑OA1、‑SOmA1、‑NA1A2、‑COOA1或‑CONA1A2，A1、A2分别独立地表示氢原子或碳原子数为1～10的烃基，n为1～10的整数，m为0～3的整数。
基本信息
专利标题 ：
含氟嘧啶化合物及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112739689A
申请号 ：
CN201980061589.7
公开（公告）日 ：
2021-04-30
申请日 ：
2019-11-28
授权号 ：
CN112739689B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
清野淳弥青津理恵小金敬介
申请人 ：
优迈特株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
朴今春
优先权 ：
CN201980061589.7
主分类号 ：
C07D401/04
IPC分类号 ：
C07D401/04 C07D403/04 C07B61/00 C07D239/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D401/00
杂环化合物，含有两个或更多个杂环，以氮原子作为仅有的杂环原子，至少有1个环是仅含有1个氮原子的六元环
C07D401/02
含有两个杂环
C07D401/04
被环原子-环原子的键直接连接的
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-05-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 401/04
申请日 : 20191128
申请日 : 20191128
2021-04-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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