载体运输系统和真空沉积系统
授权
摘要
描述了一种载体运输系统(100)和真空沉积系统。所述载体运输系统用于在运输方向(T)中运输载体(10)，并且包括在真空腔室(101)中在所述运输方向(T)中延伸的轨道组件(150)。所述轨道组件包括用于使载体(10)悬浮的至少一个磁悬浮单元(136)和用于沿着所述轨道组件(150)移动所述载体的至少一个驱动单元(154)。所述载体运输系统进一步包括用于在横向于所述运输方向(T)、特别是垂直于所述运输方向(T)的路径切换方向(S)中移动所述轨道组件(150)的传送装置(160)。
基本信息
专利标题 ：
载体运输系统和真空沉积系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201990001341.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-03
授权号 ：
CN216435860U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
奥利弗·海默尔拉尔夫·林登贝格
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201990001341.7
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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