蒸发装置及蒸镀设备
授权
摘要
本发明提供一种蒸发装置及蒸镀设备，属于蒸镀技术领域，其可解决现有的蒸发装置中主体材料与掺杂材料掺杂不均匀的问题。本发明的蒸发装置，包括：外壳、位于外壳中的多个坩埚和多个第一喷嘴；坩埚包括：坩埚主体和位于坩埚主体上的坩埚盖；第一喷嘴设置于坩埚盖上；蒸发装置还包括：间隔的多个挡板；挡板上设置有多个通孔，且通孔的孔径小于第一喷嘴的孔径；至少部分第一喷嘴被限定在挡板与坩埚盖之间，且与第一喷嘴上邻近的挡板之间具有一定距离。
基本信息
专利标题 ：
蒸发装置及蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111118452A
申请号 ：
CN202010041394.0
公开（公告）日 ：
2020-05-08
申请日 ：
2020-01-15
授权号 ：
CN111118452B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
贾晓晨关立伟刘锦东张学政
申请人 ：
鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
内蒙古自治区鄂尔多斯市东胜区鄂尔多斯装备制造基地
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
李迎亚
优先权 ：
CN202010041394.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-06-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20200115
申请日 : 20200115
2020-05-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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