磁盘装置及写入处理方法
授权
摘要

实施方式提供能够提高记录密度的磁盘装置及写入处理方法。实施方式的磁盘装置具备:盘;头,对所述盘写入数据,从所述盘读出数据;及控制器,执行在所述盘的半径方向上划分出的第1区域中以第1线记录密度在所述半径方向上隔开间隔而对多个磁道进行写入的通常记录处理和在所述第1区域中以第1线记录密度以下的第2线记录密度在所述半径方向上对多个磁道进行覆写的瓦记录处理中的至少一方。

基本信息
专利标题 :
磁盘装置及写入处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112447195A
申请号 :
CN202010045054.5
公开(公告)日 :
2021-03-05
申请日 :
2020-01-16
授权号 :
CN112447195B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
友田悠介
申请人 :
株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
李智
优先权 :
CN202010045054.5
主分类号 :
G11B5/02
IPC分类号 :
G11B5/02  G11B5/48  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的;用磁性方法进行重现的;为此所用的记录载体
G11B5/02
记录、重现或抹除的方法及其读、写或抹除的电路
法律状态
2022-04-01 :
授权
2021-03-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G11B 5/02
申请日 : 20200116
2021-03-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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