匀场支架组件及匀场支架总装
授权
摘要

本申请公开一种匀场支架组件及匀场支架总装。该匀场支架组件包括支架本体、第一底座、第一涨紧块、第二底座和第二涨紧块,其中,所述第一底座和所述第一涨紧块构成适用于发射线圈的第一组配件,所述第二底座和第二涨紧块构成适用于梯度线圈的第二组配件,所述支架本体包括相对的顶端和底端,所述第一组配件和所述第二组配件择一的安装于所述支架本体且每组所述配件中的所述涨紧块位于所述顶端,所述底座位于所述底端,因此,只需要在支架本体上安装第一组配件或者第二组配件即可构成适用于定位基准的匀场支架,在需要更改定位基准的情况下,不用重新设计一款匀场支架,从而,不会使得整体设计及制作成本增加。

基本信息
专利标题 :
匀场支架组件及匀场支架总装
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111175679A
申请号 :
CN202010121290.0
公开(公告)日 :
2020-05-19
申请日 :
2020-02-26
授权号 :
CN111175679B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
房伟运晓靖
申请人 :
上海东软医疗科技有限公司;东软医疗系统股份有限公司
申请人地址 :
上海市闵行区紫月路1000号117、119室
代理机构 :
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 :
靳玫
优先权 :
CN202010121290.0
主分类号 :
G01R33/24
IPC分类号 :
G01R33/24  G01R33/38  G01R33/385  A61B5/055  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/20
涉及磁共振
G01R33/24
用于测量磁场或磁通量的方向或大小
法律状态
2022-04-01 :
授权
2020-06-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 33/24
申请日 : 20200226
2020-05-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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