显示面板及其制备方法
授权
摘要
本申请提供一种显示面板及其制备方法,所述显示面板包括层间介质层、金属层、第一挡墙和第二挡墙,所述金属层设置于所述层间介质层上,所述金属层包括第一部分,第二部分和第三部分,所述第一部分和第二部分之间具有第一间隙,所述第二部分和第三部分之间具有第二间隙,所述第一间隙围绕所述第一部分,所述第二间隙围绕所述第二部分,所述第一挡墙设置于所述第一间隙,所述第二挡墙设置于所述第二间隙。在本申请中,通过在层间介质层上设置金属层和挡墙,并通过金属层和挡墙的反光对比强度,判断了喷墨打印成膜的边缘位置,进而提高显示面板的良率。
基本信息
专利标题 :
显示面板及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111430331A
申请号 :
CN202010244213.4
公开(公告)日 :
2020-07-17
申请日 :
2020-03-31
授权号 :
CN111430331B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
彭黎莹
申请人 :
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
徐世俊
优先权 :
CN202010244213.4
主分类号 :
H01L23/544
IPC分类号 :
H01L23/544 H01L27/12 G09F9/30
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L23/00
半导体或其他固态器件的零部件
H01L23/544
加到半导体器件上的标志,例如注册商标、测试图案
法律状态
2022-04-05 :
授权
2020-08-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 23/544
申请日 : 20200331
申请日 : 20200331
2020-07-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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