一种低压荷正电纳滤膜制备方法及其制品和应用
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摘要

本发明提供了一种低压荷正电纳滤膜制备方法,包括步骤:S1、取聚合物、共聚物和致孔剂与溶剂混合为溶液,涂覆到非织造布表面成型,洗涤去除溶剂和致孔剂得共混聚合物超滤膜;S2、所得共混聚合物超滤膜表面涂覆多元胺溶液进行化学交联反应,形成疏松纳滤分离层;S3、所得疏松纳滤分离层表面涂覆小分子有机物溶液进行化学交联反应,形成纳滤分离层;S4、所得纳滤分离层表面涂覆金属离子溶液进行螯合反应,控干后热处理,即得;还公开了其制品和应用。本发明低压荷正电纳滤膜耐氧化、厚度薄、使用过程不脱落且可实现高效分离重金属离子,膜的亲水性、抗污染性和渗透通量较好;该制备方法工艺简单,易于规模化生产,具有良好的工业应用前景。

基本信息
专利标题 :
一种低压荷正电纳滤膜制备方法及其制品和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111420560A
申请号 :
CN202010312230.7
公开(公告)日 :
2020-07-17
申请日 :
2020-04-20
授权号 :
CN111420560B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
杨园园秦舒浩陈贵靖崔振宇杨敬葵
申请人 :
贵州省材料产业技术研究院
申请人地址 :
贵州省贵阳市白云区白金大道3491号贵州科学城
代理机构 :
北京联创佳为专利事务所(普通合伙)
代理人 :
郭防
优先权 :
CN202010312230.7
主分类号 :
B01D67/00
IPC分类号 :
B01D67/00  B01D69/02  B01D69/10  B01D61/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D67/00
专门适用于分离工艺或设备的半透膜的制备方法
法律状态
2022-04-12 :
授权
2020-08-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 67/00
申请日 : 20200420
2020-07-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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