显示模组及其制作方法、显示装置
授权
摘要

本公开涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种显示模组、显示模组的制作方法及显示装置。一种显示模组,能够设置在背光模组的一侧,所述显示模组包括:彩膜基板,包括第一透明基板,所述第一透明基板具有朝向所述背光模组的第一侧和远离所述背光模组的第二侧;阵列基板,与所述彩膜基板对盒设置,所述阵列基板包括第二透明基板和指纹识别传感器,所述第二透明基板位于所述第一透明基板的第二侧;所述指纹识别传感器形成在所述第二透明基板朝向所述第一透明基板的一侧,该方案能够避免指纹识别传感器受到大视角杂散光的干扰,进而达到更好的指纹效果。

基本信息
专利标题 :
显示模组及其制作方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111474755A
申请号 :
CN202010430083.3
公开(公告)日 :
2020-07-31
申请日 :
2020-05-20
授权号 :
CN111474755B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
吴昊安娜张晓萍蔡斯特薛海林马晓宫心峰毛先峰郭宝磊次刚孙兴盼印思琪曹学文张罗张铮穆文凯
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN202010430083.3
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  G02F1/1343  G02F1/1362  G02F1/1335  G06K9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2022-05-20 :
授权
2020-08-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20200520
2020-07-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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