一种黑膜窄带滤光片及其制备方法
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摘要
一种黑膜窄带滤光片及其制备方法，属于镀膜技术领域。滤光片包括玻璃基底、设于玻璃基底一侧的窄带通膜系、以及设于玻璃基底另一侧的长波通膜系；长波通膜系包括从下往上逐层交替沉积的氢氧化硅/氮氢化硅膜层和氧化硅膜层；窄带通膜系包括从下往上逐层交替沉积的氧化硅膜层和氢氧化硅/氮氢化硅膜层。方法包括：采用磁控溅射方法在玻璃基底一侧沉积上述长波通膜系，并在玻璃基底另一侧沉积上述窄带通膜系。本发明在入射角为0°时，934‑962nm谱段具有高透过率，在350‑901nm谱段、1000‑1100nm谱段截止；入射角为30°时，925‑951nm谱段具有高透过率；同时窄带面在入射角为6°时，反射在400‑700波段平均反射低于5％。
基本信息
专利标题 ：
一种黑膜窄带滤光片及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111736250A
申请号 ：
CN202010440566.1
公开（公告）日 ：
2020-10-02
申请日 ：
2020-05-22
授权号 ：
CN111736250B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
陆张武王迎柴建龙李恭剑徐征驰
申请人 ：
浙江晶驰光电科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省台州市椒江区开发大道东段2198号一期联合厂房3楼-A
代理机构 ：
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 ：
张海兵
优先权 ：
CN202010440566.1
主分类号 ：
G02B5/28
IPC分类号 ：
G02B5/28 G02B5/20 C23C14/06 C23C14/10 C23C14/35
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
G02B5/28
干涉滤光片
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-10-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/28
申请日 : 20200522
申请日 : 20200522
2020-10-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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