一种土岩二元基坑支护结构体系
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摘要

本发明属于基坑工程技术领域,具体涉及一种土岩二元基坑支护结构体系,包括挡土结构以及用于支撑挡土结构的多道支锚构件;挡土结构为吊脚桩或吊脚墙;挡土结构的底部伸入土岩二元基坑的微风化岩层内,且挡土结构的底部无岩肩嵌固,挡土结构底面以下的微风化岩层坑壁上设置有钢筋网喷射混凝土护面结构。本发明将挡土结构的底部伸入微风化岩层内,充分利用微风化岩层坑壁自稳,结合多道支锚构件,形成安全、可靠的支护结构体系,在挡土结构底不设置岩肩嵌固和预应力锚索锁脚,基坑外轮廓线紧凑,减小施工场地占用、土方开挖和对周边环境影响,简化工序,同时消除了锁脚预应力锚索对后期地下空间开发的地下障碍效应。

基本信息
专利标题 :
一种土岩二元基坑支护结构体系
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112049117A
申请号 :
CN202010670345.3
公开(公告)日 :
2020-12-08
申请日 :
2020-07-13
授权号 :
CN112049117B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
李隆平雷文革王洪华王天水黄德钦李良军冯景太李鹏飞董先正麦宇浩
申请人 :
中铁大桥勘测设计院集团有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市武汉经济技术开发区(沌口)博学路8号
代理机构 :
北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人 :
吴静
优先权 :
CN202010670345.3
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04  E02D29/045  E04B1/00  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2022-06-07 :
授权
2020-12-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : E02D 17/04
申请日 : 20200713
2020-12-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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