一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构
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摘要

本发明公开了一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构,包括第一保护工装、第二保护工装、第一微透镜阵列、第二微透镜阵列、二维微位移台、高精度垫片和校正工装;所述第一保护工装和第二保护工装分别与第一微透镜阵列和微透镜阵列进行粘合,保护两片微透镜阵列;所述校正工装用于调整第二微透镜阵列相对位置,其通过固定在二维微位移台上,用于实现两片微透镜阵列的高精度对齐。本发明提供的扫描式大面阵微透镜阵的对齐方法,结构简单,操作方便,能够实现两片微透镜阵列微米量级的高精度对齐,具有体积小、装置简单、加工精度要求低等特点。

基本信息
专利标题 :
一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111965779A
申请号 :
CN202010697853.0
公开(公告)日 :
2020-11-20
申请日 :
2020-07-20
授权号 :
CN111965779B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
杨磊陈卉谢洪波王茂宇杨童
申请人 :
天津大学
申请人地址 :
天津市南开区卫津路92号
代理机构 :
天津市三利专利商标代理有限公司
代理人 :
张义
优先权 :
CN202010697853.0
主分类号 :
G02B7/02
IPC分类号 :
G02B7/02  G02B3/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/02
用于透镜
法律状态
2022-06-10 :
授权
2020-12-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/02
申请日 : 20200720
2020-11-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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