屏蔽带及显示模组的制备方法
授权
摘要

本申请提供一种屏蔽带及显示模组的制备方法,在屏蔽带中,第一基底包括第一部分;第一胶层至少设置在所述第一部分上;信号屏蔽结构层设置在第一胶层上,信号屏蔽结构层与第一部分重叠设置;第二胶层设置在所述信号屏蔽结构层上。本申请的屏蔽带将基底与信号屏蔽结构层一体化,便于后续进行显示模组的制备过程。

基本信息
专利标题 :
屏蔽带及显示模组的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111968536A
申请号 :
CN202010942349.2
公开(公告)日 :
2020-11-20
申请日 :
2020-09-09
授权号 :
CN111968536B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
祝翠林
申请人 :
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
杨艇要
优先权 :
CN202010942349.2
主分类号 :
G09F9/33
IPC分类号 :
G09F9/33  H05K9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G09
教育;密码术;显示;广告;印鉴
G09F
显示;广告;标记;标签或铭牌;印鉴
G09F9/00
采用选择或组合单个部件在支架上建立信息的可变信息的指示装置(其中可变信息永久性的连接在可动支架上的入G09F11/00
G09F9/30
由组合单个部件所形成的符号所需的字符或字符组
G09F9/33
为半导体装置,例如二极管
法律状态
2022-06-10 :
授权
2020-12-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G09F 9/33
申请日 : 20200909
2020-11-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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