一种模具PVD涂层方法
授权
摘要
本发明涉及一种模具PVD涂层方法，其包括步骤，对模具表面进行抛光、清洗及烘干；将反应炉抽气并加热；将模具送入反应炉内，并通气后去除模具表面的氧化物；及以时间为单位，分别以20V‑40V的偏压，2.0Pa‑3.0Pa的气压环境及40V‑135V的偏压，3.0Pa‑5.0Pa的气压环境，分阶段将靶材离子化为离子状态，沉积于模具表面，以依次形成过渡层及工作层，最终在模具表面形成涂层。本发明提供的模具PVD涂层方法可以提高模具表面硬度、耐磨性能，满足模具的工作条件，提高了模具寿命以及成型零件质量。
基本信息
专利标题 ：
一种模具PVD涂层方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112267095A
申请号 ：
CN202010965277.3
公开（公告）日 ：
2021-01-26
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
CN112267095B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
刘艳雄熊越华林
申请人 ：
武汉理工大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
代理机构 ：
武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
丁倩
优先权 ：
CN202010965277.3
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/06 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-02-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20200915
申请日 : 20200915
2021-01-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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