微凸透镜阵列结构的加工方法
授权
摘要
本发明公开一种微凸透镜阵列结构的加工方法，包括：在透镜基材的表面形成图形化的掩膜液滴，其中，所述掩膜液滴包括亲水性掩膜材料；固化所述掩膜液滴，形成图形化的掩膜层；刻蚀所述掩膜层和所述透镜基材，形成微凸透镜阵列结构，其中，所述透镜基材的被刻蚀速率大于所述掩膜层的被刻蚀速率，所述微凸透镜阵列结构中每个微凸透镜均具有弧形凸面。采用上述技术方案公开的微凸透镜阵列结构的加工方法可以解决目前凸透镜加工过程中存在材料浪费，加工过程较为复杂，加工效率较低的问题。
基本信息
专利标题 ：
微凸透镜阵列结构的加工方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112034540A
申请号 ：
CN202011016553.8
公开（公告）日 ：
2020-12-04
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
CN112034540B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
林源为袁仁志
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京国昊天诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
施敬勃
优先权 ：
CN202011016553.8
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00 G03F1/80 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-12-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 3/00
申请日 : 20200924
申请日 : 20200924
2020-12-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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