阵列基板及其制作方法、液晶显示面板
授权
摘要
本发明提供一种阵列基板,包括衬底和位于所述衬底上的源漏极层,所述阵列基板还包括遮光层,所述遮光层位于所述源漏极层和所述衬底之间,所述遮光层在所述衬底上的投影至少覆盖所述源漏极层在所述衬底上的投影。若将该阵列基板应用于液晶显示面板中,在给液晶显示面板提供背光之后,照射至源漏极层的侧面的光线中的部分或全部能够被遮光层遮挡,从而减少或完全消除照射至源漏极层的侧面的光线,提高液晶显示面板显示画面亮度的均匀性。本发明还提供该阵列基板的制作方法以及具有该阵列基板的液晶显示面板。
基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制作方法、液晶显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112198728A
申请号 :
CN202011110150.X
公开(公告)日 :
2021-01-08
申请日 :
2020-10-16
授权号 :
CN112198728B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
吴咏波
申请人 :
武汉华星光电技术有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
何辉
优先权 :
CN202011110150.X
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362 G02F1/1333 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-06-10 :
授权
2021-01-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20201016
申请日 : 20201016
2021-01-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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