盖板的纹理制备方法、盖板、电子设备
实质审查的生效
摘要
本申请公开一种盖板的纹理制备方法，包括：提供盖板；在所述盖板作为外观的表面喷涂光感涂层，并将光感涂层烘干；调整激光器镭雕设备激光线宽为预设阈值，对所述盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，在光感涂层进行镭雕曝光的部位生成纹理图案；按照所述纹理图案对盖板进行蚀刻，从而在盖板上形成纹理线条；在光感涂层上镭雕曝光出不同线径及线宽的纹理图案，使用小于0.01mm的程度激光线宽镭雕曝光出的纹理图案，能够曝光出线宽或线距小于0.01mm的纹理图案，因此在蚀刻时能够根据纹理图案在盖板上蚀刻出线宽或线距小于0.01mm的较为精细的纹理，因此有利于实现盖板的精细化。
基本信息
专利标题 ：
盖板的纹理制备方法、盖板、电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114501872A
申请号 ：
CN202011153228.6
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张辉
申请人 ：
深圳市万普拉斯科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室
代理机构 ：
深圳市嘉勤知识产权代理有限公司
代理人 ：
王敏生
优先权 ：
CN202011153228.6
主分类号 ：
H05K5/02
IPC分类号 ：
H05K5/02 G03F7/20
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05K 5/02
申请日 : 20201023
申请日 : 20201023
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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