一种可重复使用的低温渗铝剂及渗铝方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种可重复使用的低温渗铝剂及渗铝方法。该渗铝剂包括如下质量百分比的各组分：供铝剂6～25％；促渗剂1～15％；光亮剂1～6％；分散剂54～92％。该渗铝方法包括如下步骤：a)将待处理的金属零件与该渗铝剂接触以进行渗铝处理，提供经受渗铝处理后的金属零件和已使用过的渗铝剂。本发明渗铝剂组分简单，材料易得，可重复使用，可降低渗铝成本，而且渗铝温度低，制备过程简单，提高渗铝效率，不仅改善金属零件的抗高温氧化和腐蚀性能，而且提高其服役温度和工作寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种可重复使用的低温渗铝剂及渗铝方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481013A
申请号 ：
CN202011164272.7
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李生志郁程晶丁丽锋夏楠张长春沈红卫张炼
申请人 ：
上海电气电站设备有限公司;武汉铭高新材料有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区莘庄工业区金都路3669号3幢
代理机构 ：
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
金彦
优先权 ：
CN202011164272.7
主分类号 ：
C23C10/48
IPC分类号 ：
C23C10/48
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10/00
金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10/28
使用固体，例如粉末、膏剂的
C23C10/34
埋置于粉末混合物中的，例如包埋渗
C23C10/36
仅渗一种元素
C23C10/48
渗铝
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 10/48
申请日 : 20201027
申请日 : 20201027
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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