光源装置
实质审查的生效
摘要

本公开涉及光源装置。一种光源装置,包括:等离子源;第一电源,用于为等离子源供电;第一电极,具有孔;第二电源,用于在等离子源的负电极与第一电极之间产生第一电场,使得等离子体从孔穿过第一电极;第二电极,用于接收穿过第一电极的等离子体;第三电源,用于在第一电极与第二电极之间产生第二电场;真空室;以及磁体,用于产生磁场,磁场被构造成将等离子体约束在真空室的中心轴附近,真空室包括第一腔室、第二腔室、第三腔室和第四腔室,磁体包括:第一磁体,用于在第一腔室中产生第一磁场;第二磁体,用于在第二腔室中产生第二磁场;以及第三磁体,用于在第四腔室中产生第三磁场,等离子体在第三腔室中会聚,从而产生电磁辐射。

基本信息
专利标题 :
光源装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442437A
申请号 :
CN202011196400.6
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-10-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
曾宪俊
申请人 :
上海宏澎能源科技有限公司
申请人地址 :
上海市宝山区盘古路388号5号楼三楼
代理机构 :
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 :
马景辉
优先权 :
CN202011196400.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201030
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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