光学膜片、磨砂效果及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及的磨砂效果的制备方法，包括：S1、采用图文处理软件通过随机点组合得到具有若干像素点的随机图案，像素点为方形点；S2、加入若干单点模板，用单点模板替换像素点，得到磨砂效果图案；S3、依据磨砂效果图案，在胶版上进行光刻得到磨砂效果。磨砂效果图案的随机点的形状更为多样化同时降低了设计的难度；光刻后的随机点之间相互独立，磨砂效果比较细腻，无颗粒感；胶版内具有凸起结构或凹陷结构的光滑槽型；且制备方法，操作简单，可得到不同磨砂通透感、层次感和渐消等磨砂效果。
基本信息
专利标题 ：
光学膜片、磨砂效果及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114445516A
申请号 ：
CN202011201840.6
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-11-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
韩春芳杨颖沈悦刘晓宁张瑾
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
唐静芳
优先权 ：
CN202011201840.6
主分类号 ：
G06T11/20
IPC分类号 ：
G06T11/20 G06T7/33 G03F7/00 G03F7/40
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T11/00
2D图像的生成
G06T11/20
根据基本元素绘图，例如：直线或圆
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 11/20
申请日 : 20201102
申请日 : 20201102
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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