一种变网格的芯粒排布寻优算法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种变网格的芯粒排布寻优算法,本发明包括如下步骤:S1:建立直角坐标系,该直角坐标系的X、Y轴与晶圆边缘相切;S2:以所述直角坐标系的坐标原点为起点,采用二分法找到Die排布的X方向和Y方向偏移量的最优组合,使所述晶圆上划分出的Die数量最多,得到Die的阵列排布;S3:根据S2得到的Die排布,设定单个曝光单元Shot的X方向和Y方向偏移量,使覆盖所述晶圆所需的Shot数目最少,得到Shot排布;本发明提供的变网格的芯粒排布寻优算法,计算量远远小于现有的固定网格寻优算法,大大缩短了计算时间,同时加入结果判断,确保结果的准确性。该发明有效克服了现有技术中寻优计算量大、耗时长、结果不准确等缺点,在半导体制造领域具有较高的实用价值。

基本信息
专利标题 :
一种变网格的芯粒排布寻优算法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442438A
申请号 :
CN202011215772.9
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-11-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈真林光启
申请人 :
芯恩(青岛)集成电路有限公司
申请人地址 :
山东省青岛市黄岛区中德生态园团结路2877号ICIC办公楼4楼
代理机构 :
北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高园园
优先权 :
CN202011215772.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201104
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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