基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅，该光栅的基底是石英，第一层材料为MgF2，深度为h1，第二层材料为石英，深度为h2。该光栅的周期d为706～727纳米，脊宽b为396～418纳米，倾斜角θ为18～19度，h1为452～504纳米，h2为691～743纳米，在正入射的情况下该光栅结构具有454～630纳米的波长带宽。本发明是一种适用于RGB三基色(中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米)的高效率偏振无关斜双层光栅，由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，其取材方便，结构简单，容差大，造价小，能大批量生产，可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
基本信息
专利标题 ：
基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114442211A
申请号 ：
CN202011221276.4
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘炜程周常河金戈贾伟
申请人 ：
暨南大学
申请人地址 ：
广东省广州市天河区黄埔大道西601号
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
詹丽红
优先权 ：
CN202011221276.4
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20201103
申请日 : 20201103
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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