投影系统及其伽玛曲线校正方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种投影系统以及伽玛曲线校正方法。投影系统包括投影目标以及投影装置。投影装置将测试画面投射到投影目标上。投影装置通过接收投射到投影目标上的测试画面或者感测投射测试画面的光束以获得测试画面的第一伽玛曲线，判断第一伽玛曲线与预设伽玛曲线之间的多个差值是否大于预设值。当所述多个差值其中至少之一大于预设值时，投影装置校正第一伽玛曲线以产生第二伽玛曲线。本发明的投影系统以及伽玛曲线校正方法能够依据使用情境的输出表现提供理想的伽玛曲线。
基本信息
专利标题 ：
投影系统及其伽玛曲线校正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114449238A
申请号 ：
CN202011228096.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-11-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴佳耿
申请人 ：
中强光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
韩宏
优先权 ：
CN202011228096.9
主分类号 ：
H04N9/31
IPC分类号 ：
H04N9/31 G09G3/00
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 9/31
申请日 : 20201106
申请日 : 20201106
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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