一种大小双聚焦可动透镜组及金属面曝光SLM系统
授权
摘要
本发明涉及一种大小双聚焦可动透镜组及金属面曝光SLM系统,包括沿光的传播方向依次间隔设置的凸透镜、凹透镜和凹坑阵列透镜,所述凸透镜、凹透镜和凹坑阵列透镜的轴线相互平行设置,所述凹坑阵列透镜置于可沿二维方向移动的微动平台上,所述凸透镜和凹透镜相配合将光聚焦缩小。所述金属面曝光SLM系统包括依次设置的种子光源、调Q预增益整形单元、可变光镜、调Q增益整形单元、高增益激光放大器、光束聚焦调整镜单元和成型杠。与现有技术相比,本发明的大小双聚焦可动透镜组可以同时实现面连续激光的栅格化和放大缩小,而且可以实现图像相移面曝光,且金属面曝光SLM系统可提高多点扫描曝光的速度。
基本信息
专利标题 :
一种大小双聚焦可动透镜组及金属面曝光SLM系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112285871A
申请号 :
CN202011253794.4
公开(公告)日 :
2021-01-29
申请日 :
2020-11-11
授权号 :
CN112285871B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
严鹏飞严彪
申请人 :
同济大学
申请人地址 :
上海市杨浦区四平路1239号
代理机构 :
上海科盛知识产权代理有限公司
代理人 :
吴文滨
优先权 :
CN202011253794.4
主分类号 :
G02B7/04
IPC分类号 :
G02B7/04 G02B19/00 B22F12/00 B22F3/105 B33Y30/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/02
用于透镜
G02B7/04
有聚焦或改变放大率的机构
法律状态
2022-04-05 :
授权
2021-02-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/04
申请日 : 20201111
申请日 : 20201111
2021-01-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载