一种耐辐照箱体及耐辐照设备
实质审查的生效
摘要
本申请涉及核磁技术领域，提供一种耐辐照箱体及耐辐照设备，耐辐照设备包括耐辐照箱体，以及设置在设备容腔中的PCB功能板，耐辐照箱体包括主箱体以及封堵主箱体开口的箱盖，主箱体内设置有设备容腔，箱盖内侧设置有顶部屏蔽体，顶部屏蔽体朝向设备容腔一侧的面积大于设备容腔的开口面积；设备容腔用于放置PCB功能板，底部设置有底部屏蔽体，设备容腔外侧设置有环形槽，环形槽中设置有周向屏蔽体。在实际应用过程中，通过将PCB功能板设置在设备容腔中，且在设备容腔的顶部设置顶部屏蔽体，设备容腔底部设置底部屏蔽体，以及在设备容腔的周向设置周向屏蔽体，以保证PCB功能板完全被屏蔽材料包围。
基本信息
专利标题 ：
一种耐辐照箱体及耐辐照设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114496329A
申请号 ：
CN202011254732.5
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄玉洁
申请人 ：
奇点新源国际技术开发（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济开发区科谷一街10号院2号楼5层502-1室
代理机构 ：
北京弘权知识产权代理有限公司
代理人 ：
逯长明
优先权 ：
CN202011254732.5
主分类号 ：
G21F3/00
IPC分类号 ：
G21F3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F3/00
以其物理形态或材料的形状为特征的防护物
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21F 3/00
申请日 : 20201111
申请日 : 20201111
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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