一种基于恒压力抛光的自动补偿机构
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种基于恒压力抛光的自动补偿机构，包括由第一气缸驱动的前后运动机构、设在前后运动机构上的由第二气缸驱动的上下运动机构、设在上下运动机构上的可安装抛光轮的电主轴。本发明利用气缸行程固定和推力只与气压大小有关的特性，利用气缸的浮动，通过精确控制第一气缸和第二气缸的压力，可实现抛光轮始终与3D玻璃凹面以一恒定的力贴合在一块，自动补偿抛光轮的损耗，较好地解决了3D玻璃的凹面抛光过程中抛光轮损耗与抛光一致性的问题，保证高效、稳定的抛光效果。
基本信息
专利标题 ：
一种基于恒压力抛光的自动补偿机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114536190A
申请号 ：
CN202011303185.5
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-11-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
许亮周跃龙陈永福
申请人 ：
宇环数控机床股份有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市浏阳高新技术产业开发区永阳路9号
代理机构 ：
长沙新裕知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘熙
优先权 ：
CN202011303185.5
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B41/04 B24B47/20
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 29/02
申请日 : 20201119
申请日 : 20201119
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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