光学防伪转移膜及其制备方法和应用
实质审查的生效
摘要
本发明涉及光学防伪领域，公开了一种光学防伪转移膜及其制备方法和应用，该光学防伪转移膜包括基材层和在所述基材层上依次叠加设置的剥离层、成像层、镀层和热熔胶层，所述成像层中含有具有光学防伪结构的防伪图案。本发明提供的光学防伪转移膜解决了精细微结构UV模压时的粘版问题，能适应于各种类型的精细微结构UV模压，既满足了UV模压对精细微结构的广泛适应性，又保障了后续烫印转移，有利于提升钞票及证卡领域的光学防伪效果。
基本信息
专利标题 ：
光学防伪转移膜及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114537009A
申请号 ：
CN202011342913.3
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蹇钰朱军张宝利孙凯
申请人 ：
中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司
申请人地址 ：
北京市丰台区科学城星火路6号
代理机构 ：
北京润平知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘依云
优先权 ：
CN202011342913.3
主分类号 ：
B41M5/025
IPC分类号 ：
B41M5/025 B41M3/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷
B41M5/00
复制或标记方法；供其使用的单张材料
B41M5/025
从原文纸转印油墨
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B41M 5/025
申请日 : 20201125
申请日 : 20201125
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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