井筒除垢方法、系统、装置及计算机存储介质
公开
摘要
本申请实施例公开了一种井筒除垢方法、系统、装置及计算机存储介质，属于油气井维修技术领域。所述方法包括：将包括饱和溶液和溶质颗粒的混合液通过除垢管注入井筒内来清除井筒内的污垢，停止注入混合液，并向井筒内注入混合液中的溶剂，排出清除掉的污垢和溶质。本申请实施例通过利用混合液中的饱和溶液和溶质颗粒来对井筒内的污垢进行清除，并利用溶剂来排出清除掉的污垢和溶质，不仅可以将井筒内的污垢有效的清除，还避免了井筒内出现堵塞的现象。
基本信息
专利标题 ：
井筒除垢方法、系统、装置及计算机存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114562231A
申请号 ：
CN202011360179.3
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2020-11-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘辉陈京元张华礼杨建杨航艾志鹏王斌李国王宇严俊涛黄晶钱思虹
申请人 ：
中国石油天然气股份有限公司
申请人地址 ：
北京市东城区东直门北大街9号中国石油大厦
代理机构 ：
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
宁立存
优先权 ：
CN202011360179.3
主分类号 ：
E21B37/06
IPC分类号 ：
E21B37/06
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21B
土层或岩石的钻进；从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆
E21B37/00
清洗井眼或井的方法或装置
E21B37/06
用化学方法防止或限制石蜡或类似物质的沉积
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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