一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法
公开
摘要
本发明涉及一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法，包括：S1、提供微透镜阵列，在微透镜阵列表面涂覆正性光刻胶，正性光刻胶厚度大于微透镜阵列高度；S2、去除微透镜周围的正性光刻胶并保留微透镜上表面的正性光刻胶；S3、在正性光刻胶表面和微透镜的间隙处喷涂一层黑色光阻材料；S4、对黑色光阻材料紫外泛曝光；S5、将正性光刻胶及其表面的黑色光阻材料剥离，得到指纹识别微透镜成像组件。该加工方法简单，制备出位置精度高、遮光效果好的指纹识别微透镜成像组件，解决了对准套刻中识别精度和遮光效果之间的技术矛盾问题，可以选择吸光系数更大的黑色光阻实现增强成像分辨率和提高信噪比，同时又可以获得较高的对位精度。
基本信息
专利标题 ：
一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578463A
申请号 ：
CN202011383383.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邵仁锦张瑾浦东林
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州迈塔光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
唐静芳
优先权 ：
CN202011383383.7
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00 G03F7/00 G03F7/42 H01L27/146
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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