超薄锂膜复合体及其制备方法
公开
摘要
本发明提供了一种超薄锂膜复合体及其制备方法。该复合体具有：承载层，和位于所述承载层的至少一个表面上的应力控制层和经由所述应力控制层与所述承载层复合在一起的超薄锂膜，所述超薄锂膜是具有孔径为5‑200微米的通孔的均匀薄膜，具有0.5‑20微米的均匀厚度，厚度公差在±0.5μm以内，所述超薄锂膜与所述承载层之间的粘结力为0.5‑15N·m‑1。
基本信息
专利标题 ：
超薄锂膜复合体及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114597331A
申请号 ：
CN202011397225.7
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-12-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙兆勇陈强郇庆娜孔德钰刘承浩
申请人 ：
天津中能锂业有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区天津经济技术开发区西区新业九街100号
代理机构 ：
北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
崔永华
优先权 ：
CN202011397225.7
主分类号 ：
H01M4/13
IPC分类号 ：
H01M4/13 H01M10/0525 H01M10/42
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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