一种活性元素Hf改性的β-NiAl涂层及其制备工艺
授权
摘要
本发明公开了一种活性元素Hf改性的β‑NiAl涂层及其制备工艺，属于高温防护涂层技术领域。通过复合电镀加电弧离子镀的工艺，在Ni基高温合金上制备Hf改性的β‑NiAl涂层。包括以下步骤：在基体上复合电镀Ni‑Hf层；在获得的Ni‑Hf层上使用电弧离子镀沉积Al层；再对获得的电镀Ni‑Hf+电弧离子镀沉积Al层在真空退火炉中退火获得Hf改性的β‑NiAl涂层。本发明的优点：制备工艺简单，成本低；采用复合电镀的方法将Hf元素加入到涂层中；涂层中的Hf、Al元素含量以及涂层的厚度可精确地控制。
基本信息
专利标题 ：
一种活性元素Hf改性的β-NiAl涂层及其制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112553625A
申请号 ：
CN202011410297.0
公开（公告）日 ：
2021-03-26
申请日 ：
2020-12-04
授权号 ：
CN112553625B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
姜肃猛张文璐李伟傅霖兵李淑梅李运通宫骏孙超
申请人 ：
中国科学院金属研究所
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
代理机构 ：
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 ：
于晓波
优先权 ：
CN202011410297.0
主分类号 ：
C23C28/02
IPC分类号 ：
C23C28/02 C25D3/56 C25D15/00 C23C14/32 C23C14/16 C23C14/58
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C28/00
用不包含在C23C2/00至C23C26/00各大组中单一组的方法，或用包含在C23C小类的方法与C25D小类中方法的组合以获得至少二层叠加层的镀覆
C23C28/02
仅为金属材料覆层
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2021-04-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 28/02
申请日 : 20201204
申请日 : 20201204
2021-03-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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