像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板
授权
摘要
本申请实施例提供一种像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板，所述像素定义层开孔设计方法包括基于像素定义层的预设开孔尺寸确定金属掩膜板开孔尺寸，并进一步确定像素定义层的开孔余量，依据所述像素定义层的开孔余量确定像素定义层的目标开孔尺寸，进而确定像素定义层的开孔设计方案；本申请依据像素定义层开孔余量，对像素定义层的目标开孔尺寸进行非等比例增缩，实现像素定义层的开孔尺寸和开孔间隙较好地平衡发光层寿命需求和发光层制作良率需求，促进发光层制作良率提升的同时，较好地维持发光层寿命。
基本信息
专利标题 ：
像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112582455A
申请号 ：
CN202011448720.6
公开（公告）日 ：
2021-03-30
申请日 ：
2020-12-09
授权号 ：
CN112582455B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
刘志乔
申请人 ：
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
杜蕾
优先权 ：
CN202011448720.6
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L51/56
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-04-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/32
申请日 : 20201209
申请日 : 20201209
2021-03-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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