一种双重多孔离子选择透过性膜及其制备方法
公开
摘要
本发明提供了一种双重多孔结构的离子选择透过性膜及其制备方法，所述方法包括以下步骤：A1：将造孔剂、增溶剂加入到聚合物溶液中，充分混合均匀，得到铸膜液；A2：将铸膜液浇铸在平板上或填充到多孔增强膜中，然后干燥得到预制薄膜；A3：将预制薄膜中的造孔剂洗去，然后干燥，得到双重多孔离子选择透过性膜。使用本发明的方法制备的离子选择透过性膜拥有非对称的双重多孔结构，具有离子导电率高、机械强度好、离子选择性好的特点，可以实现离子的选择性透析、电渗析、电解、电池离子导电膜等方面具有较好的应用前景。此外，本发明还具有制备工艺简单，经济实用等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种双重多孔离子选择透过性膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114618312A
申请号 ：
CN202011466741.0
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒋峰景王斐然
申请人 ：
上海交通大学
申请人地址 ：
上海市闵行区东川路800号
代理机构 ：
上海汉声知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡晶
优先权 ：
CN202011466741.0
主分类号 ：
B01D67/00
IPC分类号 ：
B01D67/00 B01D69/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D67/00
专门适用于分离工艺或设备的半透膜的制备方法
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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