一种负离子发生装置
授权
摘要
本发明涉及负离子技术领域,提供一种负离子发生装置,包括第一凹槽;陶瓷基板固定于所述第一凹槽内;所述陶瓷基板包括高压负离子涂料放电区、正高压负离子涂料接触电极、负高压负离子涂料接触电极;放电针,其连接所述负高压负离子涂料接触电极;第一弹簧,其连接所述正高压线,且其一端抵压正高压负离子涂料接触电极,另一端抵压所述第一凹槽底部;第二弹簧,其连接负高压线,且其一端抵压所述负高压负离子涂料接触电极,另一端抵压所述第一凹槽底部。本发明在第一凹槽内设置了第一弹簧和第二弹簧固定所述陶瓷基板使所述陶瓷基板不易发生位移,稳定产生负离子,并将所述第一弹簧和第二弹簧作为导电介质,连通所述陶瓷基板和高压线。
基本信息
专利标题 :
一种负离子发生装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112736656A
申请号 :
CN202011561152.0
公开(公告)日 :
2021-04-30
申请日 :
2020-12-25
授权号 :
CN112736656B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
张宾何伟生赵罗恒陈新准马鹏飞邱国财刘新雅郑晓银刘光亮李修龙傅王勇罗伟
申请人 :
广州奥松电子有限公司
申请人地址 :
广东省广州市黄埔区云骏路17号自编3栋
代理机构 :
广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
林伟斌
优先权 :
CN202011561152.0
主分类号 :
H01T23/00
IPC分类号 :
H01T23/00
法律状态
2022-05-31 :
授权
2021-11-19 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01T 23/00
变更事项 : 申请人
变更前 : 广州奥松电子有限公司
变更后 : 广州奥松电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 510336 广东省广州市黄埔区云骏路17号自编3栋
变更后 : 510336 广东省广州市黄埔区云骏路17号自编3栋
变更事项 : 申请人
变更前 : 广州奥松电子有限公司
变更后 : 广州奥松电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 510336 广东省广州市黄埔区云骏路17号自编3栋
变更后 : 510336 广东省广州市黄埔区云骏路17号自编3栋
2021-05-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01T 23/00
申请日 : 20201225
申请日 : 20201225
2021-04-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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